RIE反應離子刻蝕機是在真空系統中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的，利用了離子誘導化學反應來實現各向異性刻蝕，即是利用離子能量來使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進化學反應，同時離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。RIE反...

紫外臭氧清洗機的工作原理基于紫外線(UV)與臭氧(O2)的協同作用。紫外線照射能夠激發空氣中的氧氣分子(O2)，使其分解為氧原子(O)，隨后這些氧原子與周圍的氧氣分子結合，生成臭氧。臭氧作為一種強氧化劑，能夠迅速與材料表面的有機污染物發生化...

紫外臭氧清洗機是一款用于無機基材表面有機污染物去除的表面清洗設備，能夠簡單，經濟，快速獲得超潔凈表面。紫外臭氧清洗機的選購注意要點：1.清洗面積：根據實際需要清洗的基片或物品的大小，選擇具有合適有效清洗面積的清洗機。2.清洗效果：關注清洗機...

低溫等離子有機質去除儀被廣泛應用于多個領域中，如化工業、造紙業、制藥業等，用于去除異味、惡臭及有機質，其使用流程包括開機前的準備、開機與預熱、運行與監控、停機與清理以及注意事項等多個環節，只有嚴格按照流程操作，才能確保設備的正常運行。低溫等...

粉體在生產和加工過程中，往往會附著一些難以清洗的污垢和氧化物，這些污垢和氧化物會影響粉體的質量和使用效果。粉體等離子清洗機能夠通過等離子體的化學反應原理，將這些污垢和氧化物分解并清洗掉，從而提高粉體的質量和使用效果。粉體等離子清洗機就是在常...

RIE反應離子刻蝕機的工作原理基于化學反應和物理離子轟擊的雙重作用。在一個真空環境中，通過高頻電場的作用，激發腐蝕氣體分子，使之形成等離子體。這些高能等離子體與樣品表面發生劇烈的物理轟擊和化學反應，從而實現對材料表面的高精度刻蝕。具體來說，...

低溫等離子有機質去除儀的原理主要基于低溫等離子技術，這是一種通過導電介質在電極周圍形成一個高度聚集的等離子體區的技術。當外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體，這種混合體即為低溫等離子體。...

掃描電鏡等離子清洗機是一款專為掃描電子顯微鏡（SEM）樣品準備而設計的高效清洗設備。該機利用等離子體技術，通過活性氣體的激發，去除樣品表面的有機污染物和微塵，確保樣品在顯微觀察中的清潔和高質量成像。掃描電鏡等離子清洗機的工作原理主要基于等離...